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美国Laurell湿法腐蚀机 详细摘要: 一、湿法腐蚀机用途和特点:1、用途:主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上显影,湿法腐蚀,清洗,冲洗,甩干与光刻、烘烤等设备配合...
产品型号:EDC-650Hz-8NPPB 所在地:香港特别行政区 更新时间:2022-10-21 参考价: 面议 在线留言 -
湿法刻蚀机台 详细摘要: 1、用途:主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上显影,湿法腐蚀,清洗,冲洗,甩干与光刻、烘烤等设备配合使用。设备能满足各类以下尺...
产品型号:EDC-650Hz-15NPPB 所在地:香港特别行政区 更新时间:2022-10-21 参考价: 面议 在线留言 -
匀胶显影机 详细摘要: 650型匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、...
产品型号:EDC-650MZ-23NPP 所在地:香港特别行政区 更新时间:2022-10-21 参考价: 面议 在线留言